填補國產空白！皓宇電子12英寸CVD設備實現量產新 - asiasworldcity.hk

「香港飛龍」標誌

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本月，皓宇電子自主研發的12英寸多腔多工位CVD設備與8英寸多腔多工位CVD設備量產。這一里程碑不僅標誌着公司完成了從架構設計、樣機驗證到系統交付的技術閉環，更實現了國內在該設備架構類別的首次工程化部署，填補了國產細分領域空白。對標先進技術路線，構建原創技術體系皓宇電子自2020年起專注於“多腔多Station”CVD設備的自主研發，該架構已成爲全球主流廠商佈局的下一代CVD技術核心方向。不同於市場上仍普遍採用的“twinchamber”架構，皓宇電子選擇了技術門檻更高的“多工藝腔-多Station”模式，以提升沉積路徑一致性和厚膜工藝效率，在工藝穩定性、設備兼容性、產線產能提升與成本控制等關鍵維度，形成顯著競爭優勢。區別於傳統的“外觀對標+參數拼接”策略，皓宇電子自主構建了完整的國產化CVD設備體系，涵蓋從結構設計到控制平臺的全鏈路創新：工藝腔優化——提升膜層均勻性與沉積速率；氣路系統自主設計——實現精準流量與成分控制；溫控系統增強——保障沉積穩定性與工藝一致性；搬運平臺優化——提高設備兼容性與節拍控制精度；射頻功率控制+智能調度算法——確保複雜工藝精度與一致性。12英寸多腔多工位CVD知識產權護航，構建可持續演進能力皓宇電子自2021年起建立自主知識產權體系，目前已累計百餘項專利佈局，覆蓋多工藝腔-多Station架構、加熱系統、功率系統、傳輸機構、智能算法及核心零部件等多箇關鍵技術領域。這些專利不僅形成了核心模塊的技術護城河，更爲整機的獨立演進與橫向拓展奠定了基礎，使設備能夠靈活適配更多先進製程和新材料應用。工程落地前移，國產化競爭力凸顯皓宇電子的CVD設備在量產部署階段展現出多項市場化優勢：緊湊設計——佔地優化，適配晶圓廠廠房佈局；高核心部件國產化率——遠超主流Fab標準，提升供應鏈安全性；兼容多種材料工藝——適配邏輯、存儲、功率器件等應用場景；自研控制系統——提供溫控精度、氣路調度與功率管理的閉環優化；成熟供應鏈體系——具備批量交付與快速響應能力；降本增效方案支持——通過結構優化與核心部件自研，打造“低成本、高效率”的整機體系，幫助客戶在降低採購成本的同時提升生產效率；按需配置靈活選型—— 核心部件支持國產替代與進口靈活選擇，滿足不同客戶多層次需求與策略部署。8英寸多腔多工位CVD作爲國內首家完成“多腔多Station”CVD設備量產的企業，皓宇電子不僅填補了該技術路線的國產空白，更爲國產半導體設備邁向“高端可用、廣域適配”提供了可借鑑的創新樣本。半導體精品公衆號推薦專注半導體領域更多原創內容關注全球半導體產業動向與趨勢*免責聲明：本文由作者原創。文章內容系作者個人觀點，半導體行業觀察轉載僅爲了傳達一種不同的觀點，不代表半導體行業觀察對該觀點贊同或支持，如果有任何異議，歡迎聯繫半導體行業觀察。今天是《半導體行業觀察》爲您分享的第4099期內容，歡迎關注。『半導體第一垂直媒體』實時專業原創深度公衆號ID：icbank喜歡我們的內容就點“在看”分享給小夥伴哦

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